反滲透自動(dòng)軟化加紫外線(xiàn)殺菌系統(tǒng) 反滲透軟化加紫外線(xiàn)殺菌設(shè)備廠家
反滲透設(shè)備是將原水經(jīng)過(guò)精細(xì)過(guò)濾器、顆粒活性碳過(guò)濾器、壓縮活性碳過(guò)濾器等，再通過(guò)泵加壓，利用孔徑為1/10000μm（相當(dāng)于大腸桿菌大小的1/6000，病毒的1/300）的反滲透膜（RO膜），使較高濃度的水變?yōu)榈蜐舛人瑫r(shí)將工業(yè)污染物、重金屬、細(xì)菌、病毒等大量混入水中的雜質(zhì)全部隔離，從而達(dá)到飲用規(guī)定的理化指標(biāo)及衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)，產(chǎn)出至清至純的水，是人體及時(shí)補(bǔ)充優(yōu)質(zhì)水分的*選擇.由于RO反滲透技術(shù)生產(chǎn)的水純凈度是目前人類(lèi)掌握的一切制水技術(shù)中zui高的，潔凈度幾乎達(dá)到100%，所以人們稱(chēng)這種產(chǎn)水機(jī)器為反滲透純凈水機(jī)。
反滲透工藝流程
原水罐
儲(chǔ)存原水，用于沉淀水中的大泥沙顆粒及其它可沉淀物質(zhì)。同時(shí)緩沖原水管中水壓不穩(wěn)定對(duì)水處理系統(tǒng)造成的沖擊。（如水壓過(guò)低或過(guò)高引起的壓力傳感的反應(yīng)）。
原水泵
恒定系統(tǒng)供水壓力，穩(wěn)定供水量。
多介質(zhì)過(guò)濾器
采用多次過(guò)濾層的過(guò)濾器，主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質(zhì)、懸浮物等顆粒在20um以上的物質(zhì)，可選用手動(dòng)閥門(mén)控制或者全自動(dòng)控制器進(jìn)行反沖洗、正沖洗等一系列操作。保證設(shè)備的產(chǎn)水質(zhì)量，延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命。反滲透自動(dòng)軟化加紫外線(xiàn)殺菌系統(tǒng) 反滲透軟化加紫外線(xiàn)殺菌設(shè)備廠家
活性炭過(guò)濾器
系統(tǒng)采用果殼活性炭過(guò)濾器，活性炭不但可吸附電解質(zhì)離子，還可進(jìn)行離子交換吸附。經(jīng)活性炭吸附還可使高錳酸鉀耗氧量（COD）由15mg/L（O2）降至2～7mg/L（O2），此外，由于吸附作用使表面被吸附復(fù)制的濃度增加，因而還起到催化作用、去除水中的色素、異味、大量生化有機(jī)物、降低水的余氯值及污染物和除去水中的三鹵化物（THM）以及其它的污染物。同時(shí)，設(shè)備具有自我維護(hù)系統(tǒng)，運(yùn)行費(fèi)用很低。
離子軟化系統(tǒng)
R/O裝置為了溶解固體形物的濃縮排放和淡水的利用，為防止?jié)馑颂貏e是RO裝置zui后一根膜組件濃水側(cè)出現(xiàn)CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4,SrSO4,SiSO4的濃度積大于其平衡溶解度常數(shù)而結(jié)晶析出，損壞膜原件的應(yīng)有特性，在進(jìn)入反滲透膜組件之前，應(yīng)使用離子軟化裝置或投放適量的阻垢劑阻止碳酸鹽，SiO2，硫酸鹽的晶體析出.
精密過(guò)濾器
采用精密過(guò)濾器對(duì)進(jìn)水中殘留的懸浮物、非曲直粒物及膠體等物質(zhì)去除，使RO系統(tǒng)等后續(xù)設(shè)備運(yùn)行更安全、更可靠。濾芯為5um熔噴濾芯，目的是把上級(jí)過(guò)濾單元漏掉的大于5um的雜質(zhì)除去。防止其進(jìn)入反滲透裝置損壞膜的表面，從而損壞膜的脫鹽性能。
反滲透系統(tǒng)
反滲透裝置是用足夠的壓力使溶液中的溶劑（一般是水）通過(guò)反滲透膜（或稱(chēng)半透膜）而分離出來(lái)，因?yàn)檫@個(gè)過(guò)程和自然滲透的方向相反，因此稱(chēng)為反滲透。反滲透法能適應(yīng)各類(lèi)含鹽量的原水，尤其是在高含鹽量的水處理工程中，能獲得很好的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。反滲透法的脫鹽率提高，回收率高，運(yùn)行穩(wěn)定，占地面積小，操作簡(jiǎn)便，反滲透設(shè)備在除鹽的同時(shí)，也將大部分細(xì)菌、膠體及大分子量的有機(jī)物去除。
紫外線(xiàn)殺菌器
殺滅由二次污染產(chǎn)生的細(xì)菌*保證成品水的衛(wèi)生指標(biāo).
原水 → 原水箱 → 原水泵 →多介質(zhì)過(guò)濾器 （石英砂過(guò)濾器）→活性炭過(guò)濾器 →軟水處理器（添加阻垢劑裝置） → 精密過(guò)濾器 → 高壓泵 → 一級(jí)反滲透（RO）裝置 →紫外線(xiàn)殺菌裝置 → 用水點(diǎn)
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更新時(shí)間：2022-05-23
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